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半导体行业

光谱共焦测量离形膜厚度

时间:2024-06-08 15:48:15 作者:小编 点击:

摘要

光谱共焦测量技术由于其高精度、允许被测表面有更大的倾斜角、测量速度快、实时性高、对被测表面状况要求低、以及高分辨率的独特优势,迅速成为工业测量的热门传感器,在生物医学、材料科学、半导体制造、表面工程研究、精密测量、3C电子等领域得到广泛应用。

1、引言

本次测量场景使用的是振越科技TS-C400光谱共焦传感头和CCS控制器。TS-C系列光谱共焦位移传感器能够实现0.025µm的重复精度,±0.02% of F.S.的线性精度,10kHz的采样速度,以及±65°的测量角度,能够适应镜面、透明、半透明、膜层、金属粗糙面、多层玻璃等材料表面,支持485、USB、以太网、模拟量的数据传输接口。

2、离形膜厚度测量方法

准备工作:将光谱共焦位移传感器安装好,控制器器与电脑连接。打开数据采集软件,设置测试参数,例如采样频率、采样时间等。

测量需求:根据客户给的信息,离形膜厚度在25um左右,用C系列单侧测厚测出离形膜的厚度,误差要求在1μm以下。

测量方法:取薄膜四个点测出数据然后进行对比算出误差,由于薄膜比较大我们将薄膜剪成四小块进行测量。

3、测量结果分析

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第一块测的数据

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第二块测的数据

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第三块测的数据

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第四块测的数据

4、总结

经过数据对比第一个点数值最大,第三个点数值最小,二四是一样的。误差在0.0008mm,我们的C400能满足此膜的测量要求。


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